①.电子束光刻技术
利用聚焦电子束在基板上创建纳米级图案，在纳米制造中提供了卓越的精度以及多功能性。这种方法主要用于研究应用，因为它不适用于超透镜的大规模生产。
②.DUV光刻技术
利用深紫外线（DUV）光将复杂的图案转印到感光材料上。这使其成为半导体制造中用于高分辨率图案的关键技术。
③.纳米压印光刻技术
涉及将带有预定义纳米结构的模具压制到基板上。这为高精度纳米级图案复制提供了一种经济高效且可扩展的方法。